速途网讯 据外媒报道,三星电子事实上的领导者李在镕开始大谈该公司利用世界上第一个3纳米工艺技术制造尖端芯片的战略计划。李在镕参观了该公司位于京畿道华城的半导体研发中心。三星公司称,这位三星继承人称,该公司计划采用正在开发的最新3纳米全栅极(gate-all-around,简称GAA)工艺技术来制造尖端芯片,并提供给全球客户。
高盛:今年全球5G手机规模逾2亿部
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2020年1月3日 07:19
“伯坦科技”获B轮融资,用于铺设充换电站、研发新车型
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